真空镀膜机镀制tin十au si02膜介绍-天生赢家 一触即发

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真空镀膜机镀制tin十au si02膜介绍

2021-01-23

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       天生赢家 一触即发-k8凯发用复合涂层离子镀方法为黄铜电镀亮镍的手表壳镀制tin十au si02膜,真空镀膜机采用电弧、磁控溅射、中频或射频溅射离子镀多功能真空镀膜机,在真空镀膜室壁上安装6个小平面弧源钛靶镀tin,中心安装柱状磁控溅射黄金靶镀金,壁上安装2个矩形平面磁控溅射si02 靶或si靶镀si02。采用直流偏压电源。



       (1)工件清洗、上架、入炉。方法同前。
       (2)抽真空:本底真空最好达到6.6 x 10-3 pa,烘烤加热温度为150℃左右。
       (3)轰击清洗。方法同前,包括氩轰击和钛轰击两种方法。
       (4)镀膜
       ①沉积钛底层
       真空度:通入高纯氩气,真空度保持在5 x 10-2pa。电弧电流:50~70a,引燃全部弧源,时间为2~3min。偏压:400~500v。
       ②沉积tin膜
       真空度:通入高纯氮气,真空度保持在s x l0-1pa。偏压:100~200vo电弧电流:60~80a。沉积时间:10~20min,膜层厚度0.1~0.5μm。
       ③掺金镀
       真空度:通入高纯氮气,真空度保持在5 x 10-2pa。偏压:100~150v。电弧电流:60a(真空镀膜室上、中、下各点燃1个源)。磁控溅射金靶电压:400—500v,电流3~5a;时间:1min。
       ④镀金
       真空度:通入氩气,真空度保持在3 x 10-1pa。偏压:100~150v。溅射靶电压:400~550v。时间:5-10min。
       ⑤沉积si02
       真空度:通入高纯氩气,真空度8 x 10-2pa或5x 10-1pa。中频(射频)电源功率:200~500w。时间:10~20min。
       (5)冷却:首先关闭中频(或射频)电源,然后关气源,停转架。工件在真空室内冷却到80-100℃时,向真空室充空气,取出工件。该工艺也叫掺金镀或ipg,最后一层si02是透明的,是保持金膜的,它可以延长金膜的磨损时间,根据客户的要求可有可无。
        天生赢家 一触即发-k8凯发镀制tin十au si02膜层,和平时镀一些普通的膜层基础步骤类似,但是一些关键的步骤,却是截然不同,因此要想要达到所需的效果,必须要谨慎和细心才可以。
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