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磁控溅射真空镀膜机镀膜常见故障及解决办法

2020-07-08

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      磁控溅射技术在市场中应用非常的广泛,各行各业物件膜层镀膜,大多数都是采用磁控溅射技术,磁控溅射技术在真空行业也是非常的受欢迎和追捧。磁控溅射是属于物理气相沉积(physical vapor deposition,pvd)的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射技术虽然很受追捧,但是在操作它时,也会遇到很多的问题,那么磁控溅射真空镀膜机在日常操作中,有哪些常见的故障呢,下面帮大家列举出来:




二、辉光不稳 
      (1)电压电流不稳,检查电源; 
      (2)真空室压力不稳,检查氩气进气量及真空系统; 
      (3)电缆故障,检查电缆是否连接良好。
 
三、成膜质量差 
      (1)基片表面清洁度差,清洁基片表面; 
      (2)真空室清洁度差,清洁真空室; 
      (3)基片温度过大或过小,检查温控系统,校准热电偶; 
      (4)真空室压力过大,检查真空系统; 
      (5)溅射功率设置不当,检查直流电源,设置何事的设定功率。
      
四、溅射速率低 
      (1)氩气进气量过大或过小,观察辉光颜色可以判定氩气是过大还是过小,据此调整氩气进气量;检修流量计; 
      (2)靶材过热,检查冷却水流量; 
      (3)检查永磁体是否消磁。
  
       当磁控溅射真空镀膜机出现异常的时候,大多数都是以上四条的原因,大家可以提前掌握,后期遇到问题的时候,可以根据这几条思路去排查。
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