functional film coating equipment 功能性薄膜涂层设备
汇成在pma i 专利技术的基础上，开发出pma ii 和efc专利技术，并成功的将pma ii 和efc技术集成到新一代涂层系统上。该系统具有灵活的配置，可以与arc、ms、hipims等技术组合使用，为新涂层，新材料的开发提供更多的可能性，为刀具涂层、模具涂层、零部件涂层、dlc涂层、glc涂层、ta-c涂层等提供完整的涂层方案。
广泛应用于科研、半导体、工具、刀具、模具、零部件、医疗器械、光学、新能源等行业。可镀制altin、tialn、altixn、alcrn、alcrxn、tisin、crn、tin等氮化物涂层，ta-c、类石墨、cr a-c、cr a-c:h、w a-c、w a-c:h等碳基，cr a-c:h、crn a-c:h等pecvd涂层。
汇成真空提供最先进的pvd、pacvd等功能性涂层的广泛产品组合技术设备，用于适应各种加工要求和工件材料的高速钢和硬质合金工件。
汇成真空涂层节省了总体加工成本，因为它们允许更高的切削速度、进料和由于延长使用寿命而减少的更换工具的时间。涂层的低摩擦性能和硬度允许减少润滑和冷却，建立可预见的磨损，保证加工零件的表面质量更好。
高性能涂层：
高性能涂层是专门设计用于对坚韧和粗糙的工件材料进行高速、大进料加工的工具，工况高热和高机械负荷，最小或低润滑和冷却。
涂层价值：
汇成真空的众多特殊用途的涂层加工在hss和硬质合金工件上，是切削金属、塑料、复合材料和包括木材等其他材料的重要部件。它们提供高效率，延长工件使用寿命，并降低总体成本。
| 主要模块 | |
| arc | hipims |
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创新的apa蒸发器技术（先进的等离子辅助）基于阴极真空电弧，为新的层结构提供了多种开发可能性。 优势： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉积率高 ●磁场可调节 ●靶材更换时间短 ●等离子体密度高 ●完美的涂层结合力 |
hipims代表高功率脉冲磁控溅射。 优势： ●离化率高（类似于电弧法） ●高功率密度，从 100 到1000 w/cm2 ●等离子密度非常高 ●可以通过等离子参数设置来调节层结构 ●涂层非常光滑 ●完美的涂层结合力 ●在低基材温度下沉积致密的涂层 |
| 其他模块 | |
| 溅射 | 氮化 |
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在溅射工艺中，通过高能离子（ar）轰击靶材，分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体，将涂层沉积在基材上。 优势： ●可以溅射多种材料 ●多种工艺变量可用 ●光滑的涂层 ●结合功率刻蚀工艺aegd获得好的涂层结合力 |
使用氮化模块，可在同一个系统、同一个批次，在pvd和/或pacvd涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层，为后续的pvd/pacvd涂层提供完美的支撑。 优势： ●优化工具和零部件属性 ●替代昂贵的基材 ●显著延长寿命 ●可以应用所有pvd涂层 |
| dlc | ta-c |
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dlc就是类金刚石涂层，指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用dlc模块，可以通过使用pvd和/或pacvd工艺来生成不同的dlc涂层。标准dlc涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。 优势： ●完美的涂层结合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系数 ●光滑的涂层 |
ta-c 就是不含氢的四面体非晶碳，指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-c模块可以生产不同的ta-c涂层。 优势： ●适用于比dlc更高的温度环境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂层结合力 ●光滑的涂层 |
