pacvd是等离子体辅助化学气相沉积的缩写，有时也写作pecvd，e代表增强的意思。在pvd过程中，涂层材料是从固体形式蒸发得到；而在pacvd过程中，涂层是从气体形式得到，气体，如hmdso（六甲基二甲硅醚）在等离子体作用下，大约200 ºc时发生裂解，非反应气体，如氩气，可以使离子沉积到工件表面并形成很薄的涂层，类金刚石（dlc）涂层就是pacvd技术制备的很好的例子，通常应用于摩擦学和汽车行业。
等离子体辅助化学气相沉积 (pacvd) 用于沉积 dlc 涂层， 通过等离子体激发和电离，激活工艺中的化学反应，借助此工艺，我们可以在约 200 °c 的低温下使用脉冲辉光或高频放电进行沉积，用 pacvd 生成的类金刚石涂层具有摩擦系数低和可扩展的表面硬度特性。
