大面积透明导电膜生产线,卧式连续镀膜生产线,连续磁控溅射镀膜设备-天生赢家 一触即发

hccl系列

透明导电膜镀膜线

transparent conductive film coating system
真空应用k8凯发的解决方案提供商
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large area transparent conductive film glass production line 太阳能薄膜导电膜生产线

     本设备广泛运用在太阳能电池上,透明导电膜作为减反射层和透明电极使用,可以提高太阳能的转换效率,降低成本,无毒环保,膜层稳定,同时可以消除立式生产线无法大规模生产的弊端,可以大大提高生产量。

     设备采用大面积溅射技术,镀膜机宽度大,可以同时处理很多基片,特别适用于极低成本、高生产率应用,该系统也适用于其他小尺寸和非常薄的基片。

     由于采用模块化设计,镀膜线可以配备旋转磁控管,以溅射沉积高性能透明导电氧化物膜层或者多种其他材料,例如金属和金属氧化物,可以在真空状态下或在基片进入真空状态之前对基片进行预处理,比如对基片进行清洗或蚀刻。


优势:

•采用闭环控制器的高反应溅射率
•出色的气体分离技术
•灵活配置以满足特定的生产需求
•3、5或7倍微调气体分布以提高涂层均匀性
•优化的磁性配置,具有出色的均匀性和利用率
•兼容工业机器人的自动装卸

product advantage.

产品特点
hccl系列大面积透明导电膜生产线包括以下关键功能:
  • 技术成熟

    成熟的磁控溅射技术

  • 单独间隔

    各自间隔的真空腔室设计

  • 灵活

    灵活配置载体传输系统

  • 温度可控

    可靠加热控制系统

  • 高效

    低成本的高生产率

  • 客制化

    灵活的动态设计

项目 性能
适用基材 m2、m4硅片
基材温度 <150℃
ito膜性能 透过率>90%
电阻率<4 × 10-4 ω · cm
薄膜均匀性 ≤±5%
节拍 40~60s
稼动率 ≥90%
产能 5000~8000片/小时
项目 性能
适用基材 m2、m4硅片
基材温度 <150℃
薄膜均匀性 ≤±5%
节拍 40~60s
稼动率 ≥90%
产能 5000~8000片/小时

application cases.

应用案例
项目 性能
适用基材 m2、m4硅片
基材温度 <150℃
薄膜均匀性 ≤±5%
节拍 40~60s
稼动率 ≥90%
产能 5000~8000片/小时

application cases.

应用案例
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