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簇式微纳

加工中心

cluster system for micro / nano structures
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cluster system for micro / nano structures 簇式微纳加工中心

设备模块化设计,可结合等离子清洗(plasma-clean)单元,磁控溅射(spt)单元,等离子增强化学反应(pecvd)单元,原子层沉积(ald)单元,以及等离子化学反应刻蚀(rie)单元,拓展成簇式微纳加工中心,涵盖半导体微纳结构加工的基材清洗、薄膜沉积(含超薄薄膜)和图案化刻蚀整套工序。满足严格的薄膜沉积均匀性规格,最大程度减少了高应力薄膜缺陷,提高产量而降低成本。


特点:

•模块化设计,便于升级或改装,为客户提供理想配置
•腔体相互独立,不同工艺灵活切换
•spt:沉积多种不同材料,可选共溅射模式
•pecvd:应用于多种光学膜系材料,n、k值可调
•ald:镀超薄膜,膜层均匀、高覆盖率
•rie:刻蚀不同材料的多层膜,精确控制蚀刻壁的垂直度和沟槽轮廓

product advantage.

产品特点
簇式微纳加工中心包括以下关键功能:
  • 模块化
  • 均匀沉积
  • 高产量
  • 工艺灵活
  • 自主研发
  • 紧凑
应用:
金属化应用 mems芯片封装:saw滤波器、adas传感器、生物传感器、pzt压力传感器、温度传感器、气体传感器
光学薄膜应用 激光滤光片、薄膜偏振片、陡边滤光片、分束器、单/多陷滤光片、激光反射镜、消费电子产品、光纤反射镜
适用波长:0.3 μm~15 μm
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