电子束真空镀膜机,电子束蒸发镀膜机,电子束镀膜机-天生赢家 一触即发

hceb系列

电子束蒸发

高精密光学镀膜机

high precision e-beam evaporation coating machine
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high precision e-beam evaporation coating machine 高精密电子束蒸发镀膜机

      在玻璃/pc/pmma基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机;将满足客户需求的多种元件组合在一起,可以形成品质更加优良的薄膜;基片伞架采用中心旋转方式(公转),减少产生振动和颗粒,使基片能够稳定旋转。

      采用坩埚上没有极片的电子束加热方式作为蒸发源,可以稳定地形成多层膜;采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控,可以形成高精度且稳定的光学多层膜;可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。

      使用均匀分布的高离子电流密度的离子源,搭载双电子枪,多点和环型坩埚可镀100层以上,利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程,工件架可选择钟罩式或行星式。

ar 膜(基材玻璃透过率>91.5%):
■  420-680nm波段,单面平均透过率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
■  双面平均透过率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;

as/af膜测试标准:
■   初始接触角范围为 115±5°;
■   钢丝绒耐摩擦测试标准:用 0000#钢丝绒,面积为 10*10mm,行程 40 次/分,负载1kg,5000 次往返摩擦后,接触角大于 100°;
■   橡皮擦测试标准: 直径 6mm 橡皮擦,行程 25 次/分,负载1kg, 2500 次往返摩擦后,接触角大于 100°;
备注:测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃,表面光洁。


优势:

•提高沉积速率以实现更高产量
•在半导体,光电和光子学领域实现高精度工艺
•坚固耐用且易于维护

product advantage.

产品特点
hceb系列高精密电子束蒸发镀膜机包括以下关键功能:
  • 采用大口径高输出离子源, 可实现离子辅助镀膜

  • 采用可精确控制的光学膜厚计、 多点监测交换机构

  • 涡轮分子泵可以在无油的清洁环境中进行成膜

  • 针对排气和工艺过程中产生的微粒采取了措施

  • 搭载有运行管理系统, 可用于实时状态监测和损失分析等

  • 采用in-situ监测器能够提高成品率、缩短调整时间

规格
型号 hceb-1100
腔体尺寸 φ1100 x h1520
装载量 0.8 m2
结构 立式前开门,sus304不锈钢
性能
转速 10~30rpm(可变)
抽速 大气压至1.5×10-3pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5pa
膜料 tio2,ti3o5,h4,zro2,zns,al2o3,mgf2,sio2,au,ag,cu,al,ti,in,sn...
主要配置
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 卤素灯 / 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 高真空泵组 低温泵 / polycold
真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 电子枪,无氧铜坩锅,阻抗式蒸发源,射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 mfc或apc自动压强控制仪
膜厚控制仪 晶控或光控
控制系统 pc plc
应用
光学薄膜应用 uv/ir截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、rgb滤光片、光触媒、hr膜等
适用波长 300nm~1560nm
注:可客制化(数据仅供参考)
规格
型号 hceb-1350
腔体尺寸 φ1350 x h1610
装载量 1.1 m2
结构 立式前开门,sus304不锈钢
性能
转速 10~30rpm(可变)
抽速 大气压至1.5×10-3pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5pa
膜料 tio2,ti3o5,h4,zro2,zns,al2o3,mgf2,sio2,au,ag,cu,al,ti,in,sn...
主要配置
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 卤素灯 / 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 高真空泵组 低温泵 / polycold
真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 电子枪,无氧铜坩锅,阻抗式蒸发源,射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 mfc或apc自动压强控制仪
膜厚控制仪 晶控或光控
控制系统 pc plc
应用
光学薄膜应用 uv/ir截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、rgb滤光片、光触媒、hr膜等
适用波长 300nm~1560nm
注:可客制化(数据仅供参考)
规格
型号 hceb-1550
腔体尺寸 φ1550 x h1810
装载量 1.5 m2
结构 立式前开门,sus304不锈钢
性能
转速 10~30rpm(可变)
抽速 大气压至1.5×10-3pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5pa
膜料 tio2,ti3o5,h4,zro2,zns,al2o3,mgf2,sio2,au,ag,cu,al,ti,in,sn...
主要配置
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 卤素灯 / 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 高真空泵组 低温泵 / polycold
真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 电子枪,无氧铜坩锅,阻抗式蒸发源,射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 mfc或apc自动压强控制仪
膜厚控制仪 晶控或光控
控制系统 pc plc
应用
光学薄膜应用 uv/ir截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、rgb滤光片、光触媒、hr膜等
适用波长 300nm~1560nm
注:可客制化(数据仅供参考)
规格
型号 hceb-1800
腔体尺寸 φ1800 x h1850
装载量 2.3 m2
结构 立式前开门,sus304不锈钢
性能
转速 10~30rpm(可变)
抽速 大气压至1.5×10-3pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5pa
膜料 tio2,ti3o5,h4,zro2,zns,al2o3,mgf2,sio2,au,ag,cu,al,ti,in,sn...
主要配置
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 卤素灯 / 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 高真空泵组 低温泵 / polycold
真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 电子枪,无氧铜坩锅,阻抗式蒸发源,射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 mfc或apc自动压强控制仪
膜厚控制仪 晶控或光控
控制系统 pc plc
应用
光学薄膜应用 uv/ir截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、rgb滤光片、光触媒、hr膜等
适用波长 300nm~1560nm
注:可客制化(数据仅供参考)
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